简介： 超大规模的集成电路，需要达到4N(99.995%)- 5N(99.999%)级纯度的钛，基于高纯钛晶体原材料，我公司可生产制备4N5以上高纯钛靶材。在半导体集成电路、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面，制备溅射膜材料是一项基础而重要的环节。而靶材作为高速荷能粒子轰击的目标材料，是承担整个溅射工艺成功与否的关键。高纯钛因其较高的纯度，同时相对于贵金属而言较低的成本等被视为一种极具价值的镀膜材料。