新涂布工艺
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新涂布工艺
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简介: 本发明提供了一种新涂布工艺,包括箔材,所述箔材上打有多个呈规则设置的孔洞,所述孔洞为圆形,相邻所述孔洞之间间距相等,该涂布工艺,在箔材上面用激光打小孔,涂布后极片两边材料导通形成一个整体,当极片上有一面实际容量不足,另一面有富余时,正极锂离子可通过小孔迁移而形成两面优劣势互补。
本发明提供了一种新涂布工艺,包括箔材,所述箔材上打有多个呈规则设置的孔洞,所述孔洞为圆形,相邻所述孔洞之间间距相等,该涂布工艺,在箔材上面用激光打小孔,涂布后极片两边材料导通形成一个整体,当极片上有一面实际容量不足,另一面有富余时,正极离子可通过小孔迁移而形成两面优劣势互补。
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