简介： 本发明涉及一种{010}高能晶面暴露BiOCl纳米片材料的制备方法及其应用。本发明按一定比例将铋源、氯源和碱源混合均匀，将高能球磨的机械力同步作用于化学反应，然后在200～600℃下热处理，再经过洗涤除杂、固液分离、干燥制备出BiOCl纳米片材料。所制备的BiOCl材料由厚度为5～50nm、边长为150～250nm的纳米片组成，{010}晶面暴露程度为60～90％。本发明具有制备工艺简单、易实现工业化生产、制造工艺成本低、环境友好等优势。所制备的{010}高能晶面暴露BiOCl纳米片材料在超级电容器、碱性二次电池、锂离子电池、光催化剂、珠光颜料、医药等领域具有广泛应用。