简介： 本发明属于过渡金属配合物的制备领域，涉及一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。该含单阴离子配体过渡金属配合物的通式为：L(V＝O)X2，其中，L为氮负离子配体，X选自卤素，该配合物的制备方法包括如下步骤：配体原料与三甲基氯硅烷反应，得到含三甲基硅基取代的化合物；将得到的含三甲基硅基取代的化合物和等当量的VOX3反应，得到所述含单阴离子配体过渡金属配合物。本发明的优点如下：不需要使用昂贵且危险的烷基锂试剂，得到含氮负离子配体的过渡金属钒配合物，制备工艺路线简单(两步反应)，反应条件温和，产率高，成本低。