简介： 蚀刻组合物和使用所述蚀刻组合物的方法，所述蚀刻组合物包含氢氧化钾；一种或多于一种选自TEAH、TMAF和NH4OH的额外的碱性化合物；和水；或蚀刻组合物包含一种或多于一种选自氢氧化钾、氢氧化铯、氢氧化钠、氢氧化铷或氢氧化锂的无机碱性的碱性氢氧化物；任选的一种或多于一种额外的碱性化合物；水；和任选的一种或多种腐蚀抑制剂；其中所述组合物相对于衬底上存在的二氧化硅优先蚀刻所述衬底上存在的硅。