简介： 本发明提供了一种光耦合结构、系统及光耦合结构的制备方法，其中，所述方法包括：步骤S101：准备基底；步骤S102：在基底上形成铌酸锂光波导；步骤S103：在铌酸锂光波导的周壁上形成包裹铌酸锂光波导的二氧化硅芯层；步骤S104：在二氧化硅芯层的周壁上形成包裹二氧化硅芯层的二氧化硅包层。本发明缓解了现有技术中的铌酸锂光波导与单模光纤间的耦合效率低的技术问题，达到了提高铌酸锂光波导与单模光纤间的耦合效率的技术效果。