简介： 本实用新型公开了一种用于磷酸铁锂基于CVD工艺的加工设备，涉及CVD工艺加工设备领域，针对现有的加工设备存在的密封性差，极易混入空气，影响产品质量，存在CVD气体泄漏风险，存在安全隐患，无法进行CVD生产的问题，现提出如下方案，其包括入口置换室，所述入口置换室侧壁安装有辊道窑体结构，所述辊道窑体结构包括升温箱、恒温箱、冷却箱、CVD气体打入管、冷却水喷头、辊道传送带和电加热器，所述辊道窑体结构远离入口置换室的一侧安装有出口置换室，所述辊道窑体结构侧壁安装有固定结构。本实用新型结构新颖，且密封效果好，密封持久性强，生产安全可靠，节约使用成本，完成CVD包覆工艺，避免CVD包覆死角，优化CVD包覆效果。