简介： 本发明公开了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，包括以下步骤：配置电解液进行哈林槽打片，每次1.5L，根据多种添加剂体系要求，添加相应的添加剂，电解液参数按照要求进行，电解液浓度为1‑20ppm；哈林槽加液1.5L，添加剂按照浓度添加，充分搅拌均匀，电流26.5A，通电50s，控制槽压4.5‑5.5V，电镀结束后‑用纯水冲洗，然后用吹风机吹干；将铜箔从阴极板剥下，检测光泽度、抗拉强度，添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。