简介： 本实用新型涉及超薄锂带制备的技术领域，公开了一种连续电沉积制备锂带的装置。本装置包括前处理设备、电沉积设备、后处理设备以及金属基带，所述金属基带依次传送通过前处理设备、电沉积设备和后处理设备，所述前处理设备包括由金属基带依次串联的除油槽、第一清洗槽、活化槽、第二清洗槽和第一干燥槽，所述电沉积设备包括由金属基带依次串联的预沉积槽和电沉积槽，位于预沉积槽和电沉积槽内的金属基带至少有一侧设置有阳电极，所述后处理设备包括由金属基带依次串联的第三清洗槽、钝化槽和绕卷设备。采用该装置可实现连续制备厚度低于30μm的超薄锂带，其结构简单，操作方便，成本低廉，可使金属锂带的生产大规模化。