简介： 本发明提供了一种用于铌酸锂材料的刻蚀方法，所述刻蚀方法包括：提供铌酸锂基片；提供工艺气体，所述工艺气体包括氯基气体；对所述工艺气体进行电离获得等离子体，并对所述铌酸锂基片进行刻蚀。所述用于铌酸锂材料的刻蚀方法可以提高刻蚀速率且使刻蚀面光滑平整。