简介： 本发明公开了一种磁控溅射制备超薄金属锂薄膜的方法及系统。所述方法包括：至少将基材、金属锂靶材置入真空环境，并通过直流磁控溅射方法，在所述基材上沉积形成超薄金属锂薄膜。所述系统包括：直流磁控溅射设备、相互配合的至少一放卷机构和至少一收卷机构，以及至少一主辊，所述至少一放卷机构和至少一收卷机构置于第一真空室内，所述至少一主辊置于第二真空室内。本发明采用磁控溅射技术沉积的金属锂薄膜厚度更薄，表面更加均匀平整，与基材的粘附性更好，若作为锂二次电池的负极材料，可使表面电流密度分布更加均匀，从而减少锂枝晶的生成，提高电池的电化学性能与循环寿命。