简介： 本发明提供一种用于极片补锂的装置，极片包括集流体以及间断性地设置在集流体表面上的活性物质层，用于极片补锂的装置包括辊压机构、极片提供机构、锂膜提供机构、带材提供机构；辊压机构包括两个压辊；极片提供机构用于提供极片；锂膜提供机构用于提供锂膜，锂膜包括转移膜和锂箔，锂箔连续地粘附在转移膜上；带材提供机构用于提供带材，带材包括基材以及附着层，附着层能够与极片的活性物质层对应；辊压机构用于压延带材、锂膜以及极片，以使锂膜中的锂箔粘附到活性物质层上。本发明通过增加带材提供机构，能够减小极片补锂过程中覆合锂膜的压力，从而减小补锂后的补锂极片和锂膜的转移膜受损。