简介： 本发明公开一种利用真空磁控溅射镀膜技术制备锂电池C‑Si负极涂层的方法，该方法是将负极基材安装到极片架上；开启连续式真空磁控溅射镀膜设备，调整设备至可镀膜工艺条件；投入待镀膜基片架‑铜箔；离子源等离子轰击剥离铜箔表面氧化层、去除表面尖峰；直流溅镀C‑Si膜；加热退火处理；出料后特性检查；本发明通过磁控溅射真空镀膜技术在锂电池负极铜箔上沉积一层C‑Si复合负极薄膜，以提高负极电极电性能。