多晶硅半熔铸锭用坩埚及其喷涂工艺和应用
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多晶硅半熔铸锭用坩埚及其喷涂工艺和应用
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简介: 本申请公开了一种多晶硅半熔铸锭用坩埚及其喷涂工艺和应用,属于光伏技术领域。该多晶硅半熔铸锭用坩埚,包括坩埚本体和喷涂在坩埚本体内部表面的氮化硅层,所述氮化硅层的厚度为1mm‑2mm。该坩埚可防止坩埚本体中的杂质渗入多晶硅铸锭中,并且不会在多晶硅铸锭过程中脱落而与坩埚本体粘连;该坩埚的制备工艺简单,坩埚表面的氮化硅层光滑;使用该坩埚制备多晶硅锭的良率高。
本申请公开了一种多晶硅半熔铸锭用坩埚及其喷涂工艺和应用,属于光伏技术领域。该多晶硅半熔铸锭用坩埚,包括坩埚本体和喷涂在坩埚本体内部表面的氮化硅层,所述氮化硅层的厚度为1mm‑2mm。该坩埚可防止坩埚本体中的杂质渗入多晶硅铸锭中,并且不会在多晶硅铸锭过程中脱落而与坩埚本体粘连;该坩埚的制备工艺简单,坩埚表面的氮化硅层光滑;使用该坩埚制备多晶硅锭的良率高。
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标签:真空冶金
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