多孔氧化铝膜层及其制备方法
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多孔氧化铝膜层及其制备方法
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简介: 本发明公开了一种多孔氧化铝膜层及其制备方法。该多孔氧化铝膜层的孔径范围为5‑100nm,厚度为5‑100μm。其制备方法包括以下步骤:(1)采用物理气相沉积方法在多孔金属基材表面沉积铝膜;(2)对铝膜进行气氛退火处理;(3)对退火后的铝膜进行表面清洗和电化学抛光;(4)利用阳极氧化法对铝膜进行处理,获得多孔氧化铝膜。采用本发明的方法制备的多孔氧化铝膜层具有膜层孔径可控的特点,膜层内具有规则有序分布的垂直纳米通孔。
本发明公开了一种多孔氧化膜层及其制备方法。该多孔氧化铝膜层的孔径范围为5‑100nm,厚度为5‑100μm。其制备方法包括以下步骤:(1)采用物理气相沉积方法在多孔金属基材表面沉积铝膜;(2)对铝膜进行气氛退火处理;(3)对退火后的铝膜进行表面清洗和电化学抛光;(4)利用阳极氧化法对铝膜进行处理,获得多孔氧化铝膜。采用本发明的方法制备的多孔氧化铝膜层具有膜层孔径可控的特点,膜层内具有规则有序分布的垂直纳米通孔。
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标签:真空冶金
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