简介： 本发明公开了一种一次连续还原蒸馏制备高纯金属镱的方法，包括：采用真空冶炼炉，将基础原料压块放入金属坩埚内，在蒸馏体系不同温度过渡段设置钛、钼制双塞板；真空冶炼炉的炉膛抽真空至10Pa以下，送电升温，通过控制升温速率、保温时间升温，金属镧通过镧热还原高纯氧化镱，生成金属镱经双塞板蒸馏后冷凝于接收器中，蒸馏完成后关闭扩散泵，充氩气，按照设定降温速度和时间降温至常温。本发明还公开了一种真空冶炼炉。本发明保证了蒸馏过程平稳运行，金属镱溢出率低，稀土收率高，同时有效的去除杂质夹带，使金属镱中镧杂质大大降低。