透明陶瓷微流控芯片及其制备方法
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透明陶瓷微流控芯片及其制备方法
来源:北方有色网
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简介: 本发明公开了一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法,所述微流控芯片的基体为透明陶瓷,所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分,所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。步骤S1:选定物质或相成分;步骤S2:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体一;步骤S3:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体二;步骤S4:获得密实的陶瓷坯体;步骤S5:将所述陶瓷坯体放置于马弗炉中进行保温,得到陶瓷素坯;步骤S6:烧结,得到透明陶瓷;步骤S7:将所述透明陶瓷进行表面抛光处理后,进行激光聚焦刻蚀加工,激光聚焦于透明陶瓷的中间平面,所述中间平面的物质或相成分可吸收激光实现刻蚀加工,获得微通道构型的透明陶瓷微流控芯片。
本发明公开了一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法,所述微流控芯片的基体为透明陶瓷,所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分,所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。步骤S1:选定物质或相成分;步骤S2:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体一;步骤S3:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体二;步骤S4:获得密实的陶瓷坯体;步骤S5:将所述陶瓷坯体放置于马弗炉中进行保温,得到陶瓷素坯;步骤S6:烧结,得到透明陶瓷;步骤S7:将所述透明陶瓷进行表面抛光处理后,进行激光聚焦刻蚀加工,激光聚焦于透明陶瓷的中间平面,所述中间平面的物质或相成分可吸收激光实现刻蚀加工,获得微通道构型的透明陶瓷微流控芯片。
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标签:真空冶金
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