简介:
本发明公开了一种高性能含铈铸片磁体及其制备方法,该铸片磁体的组份及重量百分含量为:Pr:3.0~4.5%、Nd:13.0~16.0%、Ce:7.0~10.0%、Gd:2.0~4.0%、Ho:1.2~2.6%、B:0.5~1.5%、Al:0.5~1.0%、Cu:0.15~0.2%、余量用Fe补充。本发明的制备方法包括铸片熔炼、氢粉碎、气流磨粉碎、磁场取向成型、等静压、烧结。本发明一方面减少了钕的使用,仍能保证永磁体具有优异的磁性,保护了钕资源。另一方面铸片熔炼工艺使铸片组织没有α-Fe晶体存在,铸片破碎更容易,缩短了生产周期。
本发明公开了一种高性能含铈铸片磁体及其制备方法,该铸片磁体的组份及重量百分含量为:Pr:3.0~4.5%、Nd:13.0~16.0%、Ce:7.0~10.0%、Gd:2.0~4.0%、Ho:1.2~2.6%、B:0.5~1.5%、Al:0.5~1.0%、Cu:0.15~0.2%、余量用Fe补充。本发明的制备方法包括铸片熔炼、氢粉碎、气流磨粉碎、磁场取向成型、等静压、烧结。本发明一方面减少了钕的使用,仍能保证永磁体具有优异的磁性,保护了钕资源。另一方面铸片熔炼工艺使铸片组织没有α-Fe晶体存在,铸片破碎更容易,缩短了生产周期。