简介： 本发明涉及一种用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法，其特征在 于：在传统的用于激光晶体的介质/金属的复合膜系之间增加了一层硬质薄膜 缓冲层，其作用是增加介质-金属复合膜系的结合力，并提高复合膜系的抗激 光损伤阈值，适应了大功率激光器的发展需要。所述的缓冲层薄膜是通过电 子束热蒸发制备的，生长过程是首先将TiN颗粒及清洗后的衬底置于真空生 长室中；将生长室抽真空；利用电子束照射TiN颗粒，同时在真空室中通入 一定量的氮气或是氮离子，TiN缓冲层薄膜就会沉积到衬底上。本发明TiN 缓冲层可以显著提高复合膜系的结合力和抗激光损伤阈值，对于飞速发展的 高功率激光器有着重大的理论和现实意义。