简介:
本发明公开一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,涉及镀膜技术领域,包括配料和烧结工艺步骤。本发明,设计科学、合理,对于所述镀膜靶材,制备方便、节约,作用安全、可靠,能够有效解决氧化锆镀膜靶材开裂问题,能解决传统氧化锆镀膜靶材镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题,提高氧化锆薄膜的损伤阈值,确保产品质量。
本发明公开一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,涉及镀膜技术领域,包括配料和烧结工艺步骤。本发明,设计科学、合理,对于所述镀膜靶材,制备方便、节约,作用安全、可靠,能够有效解决氧化锆镀膜靶材开裂问题,能解决传统氧化锆镀膜靶材镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题,提高氧化锆薄膜的损伤阈值,确保产品质量。