简介:
本发明涉及在旋转或舟形炉中,通过使用氢作为 还原剂,还原钼酸铵或三氧化钼得到的高纯 MoO2粉末。将通过压制/烧结、 热压和/或HIP进行的粉末固结用来制备圆盘、厚块或板,该 圆盘、厚块或板用作溅射靶。使用适宜的溅射方法或其它物理 方式将该MoO2圆盘、厚块或板 形式溅射在基底上,从而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 导电率、功函数、均匀性以及表面糙度而言,该薄膜具有与氧 化铟锡(ITO)和掺锌ITO可比或优于其的性能如电的、光的、 表面粗糙度以及均匀性。可将该 MoO2和含该 MoO2的薄膜用在有机发光二极 管(OLED)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示板(PDP)、场致 发射显示器(FED)、薄膜太阳能电池、低电阻率欧姆接触以及 其它电子和半导体器件中。
本发明涉及在旋转或舟形炉中,通过使用氢作为 还原剂,还原钼酸铵或三氧化钼得到的高纯 MoO2粉末。将通过压制/烧结、 热压和/或HIP进行的粉末固结用来制备圆盘、厚块或板,该 圆盘、厚块或板用作溅射靶。使用适宜的溅射方法或其它物理 方式将该MoO2圆盘、厚块或板 形式溅射在基底上,从而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 导电率、功函数、均匀性以及表面糙度而言,该薄膜具有与氧 化铟
锡(ITO)和掺
锌ITO可比或优于其的性能如电的、光的、 表面粗糙度以及均匀性。可将该 MoO2和含该 MoO2的薄膜用在有机发光二极 管(OLED)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示板(PDP)、场致 发射显示器(FED)、薄膜
太阳能电池、低电阻率欧姆接触以及 其它电子和半导体器件中。