简介： 本发明公开了一种钼钨溅射靶材及其制备方法，其相对密度为99.0‑99.5％，氧含量为350‑600ppm，原料由纯度≥4N的三氧化钨粉和纯度≥3N的钼粉组成，且三氧化钨粉的含量为15‑20wt％，余量为钼粉，该三氧化钨粉的粒径为7‑10μm，该钼粉的粒径为4.5‑6.5μm。本发明适用于制备平面显示器，组织均匀，无孔洞，且氧含量低。