简介： 本发明涉及光学镀膜材料领域，尤其涉及一种圆片形氟化镁MgF2晶体镀膜材料及其生产方法，其特征在于，该材料是一种无色透明的多晶光学晶体，在波长500mm处，其折射率?Ne=1.38，材料密度约为3.17克/cm3；该材料的形状是适应各种规格电子枪坩埚或埚衬的直径和深度设计加工的圆片形或圆锥柱形，其直径尺寸范围为20mm~56mm，厚度尺寸范围为：5mm~30mm。与现有技术相比，本发明的有益效果是：完全满足电子枪镀MgF2膜坩埚的尺寸要求，装取料极为方便，具有真正不飞溅、不崩点、无放气量和蒸发面平坦等优异蒸发特性，有效提高被镀光学元件表面光洁度，尤其适用于高质量镀膜要求的超光滑光学元件表面镀膜。