简介： 本发明公开了一种新型管状ITO靶材的制备方法，其特征在于：所述ITO粉末以铟锭和四氯化锡为原料，通过工序制备得到重量百分比In2O3:SnO2＝96:3、纯度≥99.98％、粒度为0.7～1.5μm的ITO，所述ITO粉末通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨的工序制备而成，通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨等现有技术对原料进行处理得到ITO粉，再通过对ITO粉进行真空烧结、降温制备得到ITO靶材，方法简单，操作方便，便于推广使用，从而在制备中不容易出现管状ITO靶材组织的偏析现象，晶粒不是很微细均匀，纯度也不是很高的问题，并且具有尺寸大型化制作、高密度化、符合多种领域的使用，这样提高了管状ITO靶材的领域使用，从而具有很好的市场竞争力度，不容易被市场所淘汰。