简介： 本发明属于高温难熔金属靶材制备领域，具体涉及一种高致密度钼铌合金溅射靶材的制备工艺，该工艺包括如下步骤：原料混合；胶套装粉作业；冷等静压作业，升压至一定压力后，保压一段时间，然后泄压，最后将压制坯从胶套取出；真空烧结或氢气保护烧结；热等静压作业，对烧结坯直接进行热等静压作业；热轧作业，对钼铌合金进行金属包套轧制，热轧后退火去除应力；进行磨削等机加工作业，得到最终所需产品尺寸。该工艺步骤简单，操作便捷，制备的钼铌合金溅射靶材纯净度、相对密度均满足高端电子产品镀膜领域使用需求，且生产成本低，产品尺寸宽泛，便于工业化批量生产。