反应烧结碳化硅陶瓷及其生产工艺
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反应烧结碳化硅陶瓷及其生产工艺
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简介: 本发明公开了一种反应烧结碳化硅陶瓷及其生产工艺,制成该陶瓷的原料包括:5~8重量份粒度为10~90ΜM的SIC粉、2~3重量份粒度为0.1~10ΜM的SIC粉、0.5~1重量份碳黑粉、0.3~0.8重量份石墨粉和0.1~0.3重量份聚乙烯醇或羧甲基纤维素液体;经包括配料制浆、注浆成型、干燥、真空烧结和去沙氧化等工序后制成碳化硅陶瓷。本发明的生产工艺成熟可靠,生产碳化硅陶瓷产品性能优良,质量稳定,其硬度、耐温、耐磨、耐腐蚀均达到了国际反应烧结碳化硅陶瓷水平,广泛应用于陶瓷窑具、脱硫喷嘴、冶金、化工等行业,并且产品的尺寸变形率<0.1%。
本发明公开了一种反应烧结碳化硅陶瓷及其生产工艺,制成该陶瓷的原料包括:5~8重量份粒度为10~90ΜM的SIC粉、2~3重量份粒度为0.1~10ΜM的SIC粉、0.5~1重量份碳黑粉、0.3~0.8重量份石墨粉和0.1~0.3重量份聚乙烯醇或羧甲基纤维素液体;经包括配料制浆、注浆成型、干燥、真空烧结和去沙氧化等工序后制成碳化硅陶瓷。本发明的生产工艺成熟可靠,生产碳化硅陶瓷产品性能优良,质量稳定,其硬度、耐温、耐磨、耐腐蚀均达到了国际反应烧结碳化硅陶瓷水平,广泛应用于陶瓷窑具、脱硫喷嘴、冶金、化工等行业,并且产品的尺寸变形率<0.1%。
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标签:真空冶金
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