光学真空镀膜混合材料及其制备方法
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光学真空镀膜混合材料及其制备方法
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简介: 本发明公开了一种光学真空镀膜混合材料的制备方法,包括以下步骤:分别打开真空包装后,按所需比例进行称量;先将称量好的二氧化硅缓慢导入搅拌机的搅拌槽内,然后再将称量好的氧化铝缓慢导入搅拌机的搅拌槽内,开启搅拌机电源,启动搅拌机,搅拌48‑72h,使物料搅拌充分均匀;停止搅拌后打开搅拌槽的卸料口,使用盛装容器来承接搅拌好的混合物;将搅拌好的混合物在造粒机中造粒;将造粒好的颗粒,装入真空烧结炉中烧结,真空达到1*10‑3Pa,温度达到1300℃,烧结分段烧结,确保真空度、温度,烧结时间24小时后冷却;冷却至常温后,放真空取料、称重后真空包装。优点是:提高了其防污性、防创伤,使其耐酸、抗碱、耐腐蚀、耐高温。
本发明公开了一种光学真空镀膜混合材料的制备方法,包括以下步骤:分别打开真空包装后,按所需比例进行称量;先将称量好的二氧化硅缓慢导入搅拌机的搅拌槽内,然后再将称量好的氧化缓慢导入搅拌机的搅拌槽内,开启搅拌机电源,启动搅拌机,搅拌48‑72h,使物料搅拌充分均匀;停止搅拌后打开搅拌槽的卸料口,使用盛装容器来承接搅拌好的混合物;将搅拌好的混合物在造粒机中造粒;将造粒好的颗粒,装入真空烧结炉中烧结,真空达到1*10‑3Pa,温度达到1300℃,烧结分段烧结,确保真空度、温度,烧结时间24小时后冷却;冷却至常温后,放真空取料、称重后真空包装。优点是:提高了其防污性、防创伤,使其耐酸、抗碱、耐腐蚀、耐高温。
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标签:真空冶金
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