超低铬含量CuW-CuCr整体电触头及其制备方法
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超低铬含量CuW-CuCr整体电触头及其制备方法
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简介: 本发明公开了一种超低铬含量CuW‑CuCr整体电触头及其制备方法,电触头包括CuW耐弧端与CuCr导电端,CuW耐弧端中W的质量含量为50‑85%,CuCr导电端由纯铜和CuCr中间合金熔融而成,其中,Cr的质量含量为CuCr导电端的0.05‑0.2%。制备方法包括以下步骤:S1预制钨坯块;S2预制CuCr中间合金;S3整体烧结熔渗:将预制的钨坯块放入真空烧结炉中,再放入纯铜块和预制的CuCr中间合金,在真空或气氛保护条件下加温熔渗1‑6h,加热温度为1250‑1400℃,得到CuW‑CuCr合金;S4固溶、时效处理。本发明的超低铬含量CuW‑CuCr整体电触头具有较高的电导率和硬度,CuW耐弧端与CuCr导电端具有较高的抗拉强度。
本发明公开了一种超低铬含量CuW‑CuCr整体电触头及其制备方法,电触头包括CuW耐弧端与CuCr导电端,CuW耐弧端中W的质量含量为50‑85%,CuCr导电端由纯和CuCr中间合金熔融而成,其中,Cr的质量含量为CuCr导电端的0.05‑0.2%。制备方法包括以下步骤:S1预制钨坯块;S2预制CuCr中间合金;S3整体烧结熔渗:将预制的钨坯块放入真空烧结炉中,再放入纯铜块和预制的CuCr中间合金,在真空或气氛保护条件下加温熔渗1‑6h,加热温度为1250‑1400℃,得到CuW‑CuCr合金;S4固溶、时效处理。本发明的超低铬含量CuW‑CuCr整体电触头具有较高的电导率和硬度,CuW耐弧端与CuCr导电端具有较高的抗拉强度。
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标签:真空冶金
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