简介： 本发明涉及一种场发射显示器电子发射源及其制造方法,所述制造方法包括提供形成阴极的第一基板,在第一基板上利用网印或微影蚀刻技术制造含有孔穴的阴极电极层,阴极电极层表面经微影制造程序制造光阻保护层,再将低黏度纳米碳管溶液涂布在上述光阻保护层并沉积在孔穴中,经真空烧结并利用蚀刻技术去除光阻保护层形成位于孔穴内的具有平坦表面的电子发射源层。电子发射源包括形成在第一基板上的阴极、形成在所述阴极表面并含有孔穴的阴极电极层以及经蚀刻显像及真空烧结而高密度沉积在孔穴中的带有平坦表面的电子发射源层。本发明的电子发射源具有较好的平坦性、可提高影像与亮度均匀性并增加纳米碳管的密度从而有助于提高电子束电子密度。