简介： 本发明提供一种多孔叠层金属或合金溅射靶材的制备方法,该方法是以粒度在200目以上的超细金属或合金粉末为原料,采用真空冶金技术,经过粉体加压、烧结、焊接等步骤制备得到多孔叠层金属或合金溅射靶材。用本发明的方法制备的金属或合金溅射靶材的表面能较大,靶材在被溅射离子束撞击时表面的原子很容易被打出,大大减少了原子脱离材料表面需要的能量,可以提高溅射效率和薄膜生产效率。