简介： 本实用新型提出一种制备β‑SiC纳米粉体的真空还原热处理设备，包括炉体，所述炉体内部设有放置盒，所述放置盒为顶部开口结构，所述放置盒内部设有多个隔板，所述放置盒一侧与进料板相接触，所述进料板一端与进料口相连，所述进料口设置在炉体端面上，所述进料板上设有多个凸条，所述凸条底部与滑轨滑动连接，所述滑轨固定连接在进料板顶部，所述凸条数量与隔板数量一致，所述凸条一端与隔板相接触；通过设置放置盒以及在放置盒内设有隔板，并通过进料板进行放置石墨，可保证石墨在放置时间隔一致，提高其还原效果。