简介:
本实用新型公开了一种大型卧式真空还原炉,包括:还原炉,所述还原炉内安装有密封上料结构、搅拌结构以及密封结构;所述密封上料结构包含有:一对结构相同的上料圆柱箱、一对结构相同的密封轴、四对结构相同的密封板、一对结构相同的密封驱动机、一对结构相同的密封驱动齿轮以及一对结构相同的密封传动齿轮;本实用新型涉及真空还原炉技术领域,通过密封上料结构对还原炉进行密封上料,避免了还原炉内化学反应时,排放出部分气体,通过密封结构对还原炉与一对上料圆柱箱进行密封,通过挤压一对L型密封板对一对伸缩移动密封口进行高压挤压密封,通过搅拌结构将还原炉内的还原原料搅拌均匀。
本实用新型公开了一种大型卧式真空还原炉,包括:还原炉,所述还原炉内安装有密封上料结构、搅拌结构以及密封结构;所述密封上料结构包含有:一对结构相同的上料圆柱箱、一对结构相同的密封轴、四对结构相同的密封板、一对结构相同的密封驱动机、一对结构相同的密封驱动齿轮以及一对结构相同的密封传动齿轮;本实用新型涉及真空还原炉技术领域,通过密封上料结构对还原炉进行密封上料,避免了还原炉内化学反应时,排放出部分气体,通过密封结构对还原炉与一对上料圆柱箱进行密封,通过挤压一对L型密封板对一对伸缩移动密封口进行高压挤压密封,通过搅拌结构将还原炉内的还原原料搅拌均匀。