简介： 本实用新型提供一种应用于冶金领域的用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构，所述的用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构的渗氮装置壳体(1)上设置开口部(2)，开口部(2)内安装导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)，导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)之间形成取向硅钢处理腔体(5)，开口部(2)内还安装调宽密封辊(12)，调宽密封辊(12)一侧安装在开口部(2)侧面，调宽密封辊(12)另一侧设置喷嘴(14)，本实用新型的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，能够方便快捷实现不同宽度的待处理取向电工钢在渗氮前可靠实现清理、活化，取向硅钢处理腔体密封性好，满足后续渗氮处理需求，确保渗氮质量稳定。