简介： 本实用新型属于用冶金技术提纯的技术领域一种电子束熔炼用石墨和涂层衬底的水冷装置，包括水冷铜坩埚，水冷铜坩埚两侧分别安装有进水口和出水口，水冷铜坩埚内壁放置石墨衬底，石墨衬底外沿置于水冷铜坩埚外沿之上，石墨衬底的内壁上喷涂有Si3N4涂层。本实用新型设备结构简单，功能实用，在原有水冷铜坩埚的基础上设置一个高纯石墨衬底，并在高纯石墨衬底上喷涂Si3N4涂层，从而将金属熔液与水冷铜坩埚隔离开来，减少冷却水带走的热量，能量利用率提高，成本降低，提高杂质的去除效率，Si3N4涂层将金属熔液与石墨衬底隔离开，减少石墨中杂质对金属的污染，有效提高其纯度。