简介:
本发明的主题是一种用于在工业级硅的制备中氧化精炼粗硅熔体的方法,在该方法中,在精炼过程中,加入了粒度参数d50在1与200μm之间的细碎介质,该介质含有最小含量为8质量%的冶金硅,以及元素H、C、O、F、Cl、Ca、Fe和Al中至少一种或多种,其中通过使用气体的气动输送将细碎介质加入到粗硅熔体中。
本发明的主题是一种用于在工业级硅的制备中氧化精炼粗硅熔体的方法,在该方法中,在精炼过程中,加入了粒度参数d50在1与200μm之间的细碎介质,该介质含有最小含量为8质量%的冶金硅,以及元素H、C、O、F、Cl、Ca、Fe和Al中至少一种或多种,其中通过使用气体的气动输送将细碎介质加入到粗硅熔体中。