简介:
本发明涉及高性能陶瓷活塞环制造技术。目前,活塞环表面处理技术主要包括电镀铬、表面氮化、PVD与CVD镀膜、等离子喷钼、等离子喷涂陶瓷涂层等,但都存在不同的性能缺陷,达不到理想的效果。本发明采用双层辉光等离子表面冶金技术,使钼(或铬、钛、钨)元素深入普通低合金钢活塞环表层内,再经真空离子碳化和后续热处理,成为具有高硬度、高耐磨性等良好综合机械性能的陶瓷活塞环。
本发明涉及高性能陶瓷活塞环制造技术。目前,活塞环表面处理技术主要包括电镀铬、表面氮化、PVD与CVD镀膜、等离子喷钼、等离子喷涂陶瓷涂层等,但都存在不同的性能缺陷,达不到理想的效果。本发明采用双层辉光等离子表面冶金技术,使钼(或铬、钛、钨)元素深入普通低合金钢活塞环表层内,再经真空离子碳化和后续热处理,成为具有高硬度、高耐磨性等良好综合机械性能的陶瓷活塞环。