高温真空预处理制备太阳能级多晶硅的方法
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高温真空预处理制备太阳能级多晶硅的方法
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简介: 本发明公开了一种高温真空预处理制备太阳能级多晶硅的方法,首先将冶金硅破碎后磨成粉,用乙醇浸出表面的油层;然后在AR气保护下进行1000-1300℃的高温处理;之后在0.1MPA-1MPA的真空环境下进行150℃以上的中温处理。将经过高温与真空两步预处理后的硅粉用浓度为0.35MOL/L的HF酸浸泡,并在浸泡的过程中用磁力搅拌;将浸泡后的硅粉用去离子水清洗,并放在真空箱中干燥。操作方便、无污染、成本较低廉,可以得到准太阳能级多晶硅、太阳能级多晶或电子级多晶硅。
本发明公开了一种高温真空预处理制备太阳能级多晶硅的方法,首先将冶金硅破碎后磨成粉,用乙醇浸出表面的油层;然后在AR气保护下进行1000-1300℃的高温处理;之后在0.1MPA-1MPA的真空环境下进行150℃以上的中温处理。将经过高温与真空两步预处理后的硅粉用浓度为0.35MOL/L的HF酸浸泡,并在浸泡的过程中用磁力搅拌;将浸泡后的硅粉用去离子水清洗,并放在真空箱中干燥。操作方便、无污染、成本较低廉,可以得到准太阳能级多晶硅、太阳能级多晶或电子级多晶硅。
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标签:电冶金技术
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