简介： 热压工艺制备硼化物溅射靶材,制备方法流程步骤依次为：将纯度≥99.9％、粒度≤5μm的硼化物粉制成直径为1～3mm的硼化物粒子；填入石墨模具内，再装入热压炉，升温加压，保温5～10h之后，再降温制成毛坯，经过机加工后制得成品，相对密度为85％～90％，电阻率为1.0～3.5Ω·㎝；硼化物粉在高温高压下获得致密块，使其具有高相对密度，低电阻率，且均匀性好，稳定性高，具有良好的溅射性能，满足靶材使用需求。该制备方法简单易行，避免采用传统粉末冶金压制方法需要的复杂模具设计，极大地提高了成型效率，所得靶材溅射性能优良，杂质少，适用于溅射镀膜。