简介： 一种制备高纯材料的粉末冶金方法，涉及一种用于电子、太阳能行业的高纯金属或高纯陶瓷的溅射靶材料的制备方法。其特征在于其制备过程中以纯度不低于99.9%的金属粉末或陶瓷粉末为原料，其步骤包括：（1）将粉体进行成形；（2）将成形后的坯料进行预烧结；（3）将预烧结后的坯料进行最终烧结，获得高纯度、致密的材料。采用本发明的方法，在低的气氛压力下进行预烧结时，降低杂质熔点，创造了杂质的挥发条件，去除了材料中的低熔点杂质。尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、Ni等杂质元素含量，显著提高了制成品的纯度，保证溅射靶材的产品质量。