简介： 本发明公开一种冶金硅中杂质磷的去除方法,以块状或粉状的冶金硅为原料,在坩埚底部加入占冶金硅原料重量1%～5%的添加剂,然后进行真空冶炼,将磷去除。本发明具有操作简单、环境协调性好、提纯成本低、能源消耗低的特点。处理后,磷P≤0.1PPM,即满足太阳能级硅对P含量的要求。