简介： 本发明涉及涉及一种低硼低磷冶金硅的生产工艺。其技术方案是:选择SiO2>99%、B<10ppmw、P<5ppmw的硅石,破碎粒度至50～120mm,经水洗净,晾干作为原料硅;选择石油焦作为还原剂;复合添加剂按重量百分比为:CaF60～65%∶CaO22～26%∶Na2SiO37～11%,混合均匀;按照复合添加剂∶还原剂∶硅石=1∶4∶10的重量比分别称重,进行混合,投入矿热炉内,在2000℃～2400℃下熔炼4～5.5小时,中间每隔1.5～2小时停止加热,捣炉3次;将矿热炉中非硅物质与熔融的冶金硅液一同排出,注入硅水包内,进行吹氧操作,缓慢增加气压,使液态硅混合物达到沸腾状态即可,持续35～50分钟;经除渣、定向凝固,得到高品质的冶金硅。