工作原理

JEM-1400采用透射电子显微镜（TEM）技术，高能电子束（80~200kV加速电压）穿透厚度<200nm的样品，通过电磁透镜系统聚焦并放大透射电子信号。电子与样品原子核的弹性散射形成明场像（反映原子排列），与非弹性散射（如晶格振动、等离子体激元）结合可获取成分信息。设备支持高分辨TEM（HRTEM）、扫描透射电镜（STEM）模式，结合选区电子衍射（SAED）可实现晶体结构与缺陷的同步分析，符合ASTM E823与ISO 15708标准。

应用范围

该仪器适用于材料科学（金属/陶瓷/高分子晶体缺陷检测）、生物医学（病毒/细胞器超微结构观察）、半导体工业（芯片纳米级线路检测）及纳米技术（量子点/碳纳米管形貌表征）等领域。其原子级分辨率可精准解析材料微观结构，是纳米科学与工业质量控制的核心工具。

产品技术参数

加速电压：80~200kV（连续可调，稳定性±0.1%）

点分辨率：0.2nm（STEM模式），线分辨率：0.14nm（HRTEM模式）

放大倍数：50~1,500,000倍（无级变焦）

样品台：五轴自动样品台（X/Y/Z/旋转/倾斜，最大样品尺寸φ3mm）

探测器：2k×2k像素CCD相机（Gatan Orius）、STEM环形探测器

真空系统：离子泵+涡轮分子泵（本底真空<10⁻⁵Pa）

电子枪：LaB₆六硼化镧电子枪（亮度8×10⁸A/cm²·sr）

数据接口：千兆以太网（支持日本电子TEM Center软件）

电源：AC 100-240V（50/60Hz，功率≤2kW）

尺寸：2000mm×1500mm×1800mm（重量≤1500kg）

产品特点

原子级分辨率成像：HRTEM模式分辨率达0.14nm，清晰呈现晶体晶格条纹与位错；

多模式成像能力：支持明场/暗场TEM、高角环形暗场STEM（HAADF），适配形貌与成分分析；

高稳定性电子源：LaB₆电子枪寿命长，亮度高，确保长期稳定成像；

智能化软件平台：TEM Center软件支持自动对焦、图像拼接、衍射斑标定与三维重构；

扩展能力：可选配EDS（能谱仪）、EBSD（电子背散射衍射）及原位加热/拉伸样品台；

安全防护设计：辐射防护罩、紧急停止、自动泄压阀，符合实验室安全规范；

合规认证：通过CE认证，符合ASTM E823、ISO 15708标准。

JEM-1400提供一年整机质保与电子枪校准服务，其精准、高效、多功能的特性，成为透射电子显微分析领域的高端解决方案，助力用户实现从基础研究到工业质量控制的全流程需求。