简介:
本发明提供一种光学材料折射率的精密测量装置及方法,该装置及方法能够实现宽光谱分析法和法布里-珀罗干涉法的结合,通过全局残差分析,得到精确的光学材料厚度和折射率,通过对宽光谱法布里-珀罗干涉系统进行光谱分析,可以得出某个连续波段下光学材料的折射率色散曲线。本发明提高了折射率的测量精度,利用绝大多数光学材料自身的平行平板结构形成稳定的干涉腔,减小了空气扰动对干涉信号稳定性的影响,避免了将光学材料加工为特殊的形状,实现了光学材料的无损测量。
本发明提供一种光学材料折射率的精密测量装置及方法,该装置及方法能够实现宽光谱分析法和法布里-珀罗干涉法的结合,通过全局残差分析,得到精确的光学材料厚度和折射率,通过对宽光谱法布里-珀罗干涉系统进行光谱分析,可以得出某个连续波段下光学材料的折射率色散曲线。本发明提高了折射率的测量精度,利用绝大多数光学材料自身的平行平板结构形成稳定的干涉腔,减小了空气扰动对干涉信号稳定性的影响,避免了将光学材料加工为特殊的形状,实现了光学材料的无损测量。