简介： 一种有机硅纳米防护涂层的制备方法，属于等离子体技术领域，该方法中，将反应腔室内的真空度抽到10～200毫托，并通入惰性气体，开启运动机构，使基材产生运动，通入单体蒸汽到反应腔室内，进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备有机硅纳米涂层；单体蒸汽成分为：至少一种含双键、Si‑Cl、Si‑O‑C、Si‑N‑Si、Si‑O‑Si结构或环状结构的有机硅单体和至少一种多官能度不饱和烃及烃类衍生物的混合物。本发明将传统的碳氢氧有机化合物单体替换为有机硅单体，每个硅原子至少提供1‑4个活性位点，具有较高的活性，等离子沉积方法涂层厚度从纳米到微米都可以实现精确可控，且不需要使用溶剂，同时也避免了液相有机硅涂层方法产生废水、废液、废气等不足。