简介:
本实用新型涉及一种去除硅片表面浆料的喷淋装置,包括清洗槽、水箱、喷淋嘴、沉淀池和过滤器,清洗槽安装在地面上设置的地槽内,水箱包括水箱一和水箱二,分别设置在清洗槽两端,且在其前端对应设有喷淋管一和喷淋管二,两个喷淋管都通过管旋转连接器固定在清洗槽内,两个喷淋管上都设有多个喷孔,在每个喷孔内安装有喷淋嘴,清洗槽内设置有钢板,在钢板下端设有筛板,筛板下端设有废水池,沉淀池包括一级沉淀池和二级沉淀池,一级沉淀池的进水口与废水池的出水口管道连接,出水口连接二级沉淀池的进水口,二级沉淀池的出水口连接过滤装置的进口;本实用新型降低生产成本,增加硅片喷淋冲洗幅度范围,同时降低硅片清洗脏污率,从而降低硅片隐裂。
本实用新型涉及一种去除硅片表面浆料的喷淋装置,包括清洗槽、水箱、喷淋嘴、沉淀池和过滤器,清洗槽安装在地面上设置的地槽内,水箱包括水箱一和水箱二,分别设置在清洗槽两端,且在其前端对应设有喷淋管一和喷淋管二,两个喷淋管都通过管旋转连接器固定在清洗槽内,两个喷淋管上都设有多个喷孔,在每个喷孔内安装有喷淋嘴,清洗槽内设置有钢板,在钢板下端设有筛板,筛板下端设有废水池,沉淀池包括一级沉淀池和二级沉淀池,一级沉淀池的进水口与废水池的出水口管道连接,出水口连接二级沉淀池的进水口,二级沉淀池的出水口连接过滤装置的进口;本实用新型降低生产成本,增加硅片喷淋冲洗幅度范围,同时降低硅片清洗脏污率,从而降低硅片隐裂。