简介： 本发明公开了一种内嵌式被动元件结构，其包括有：一第一导电金属层、一电阻层、一介电层、一支持层、一接着层与一第二导电金属层。特别地，对本发明的内嵌式被动元件结构施予两次显影蚀刻处理之后，即可在该内嵌式被动元件结构上制作出同时包含至少一薄膜电阻元件、至少一薄膜电感元件与至少一薄膜电容元件的一电子线路。根据本发明的设计，所述电阻层为通过溅镀技术所制成的合金、金属或金属化合物电阻膜。溅镀的电阻层具有较佳的镀层致密度与连续性，因此其面电阻的最低值可小于或等于5欧姆/口。同时，利用溅镀技术制作的合金、金属或金属化合物电阻膜，亦能有效减少工业废水的产生。