简介： 本发明公开了一种钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料的制备方法，属于光催化材料技术领域。该方法包括如下步骤：将三聚氰胺和KI充分研磨后平铺于坩埚底部，将SBA-15均匀的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面，然后将坩埚加盖后置于马弗炉内进行煅烧，产物经处理后即得所述钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料。该光催化材料比表面积大使得反应活性位点增加，钾掺杂后可有效抑制光生电子和空穴的复合，表现出更优异的光催化性能。本发明钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料可降解有机染料废水，在60min能降解80％以上的目标降解物，显示了优异的光催化活性。