简介： 本发明是关于半导体、液晶显示器(LCD)等相关工业制程排放废水,甚至其它事业所产生的含有机污染物的废水的有机物的氧化去除,是关于一种借助注入臭氧及经紫外光照射的废水中有机物氧化去除流程与装置。一个处理含有机物废水的流程与系统。此系统包括紫外光/臭氧(UV/ozone)氧化去除模块,或一个或数个去除模块串联,此串联可连续或不连续。一个UV/ozone氧化去除模块主要包括臭氧产生器、臭氧吸入器、臭氧溶解槽、臭氧破坏装置、紫外线(UV)反应槽及回流管路。UV/ozone氧化去除模块的效率由回流水比例、臭氧浓度、及紫外线强度所控制。