简介： 本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其工艺步骤如下：该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。有效的解决了现有技术中的缺陷，大大提高了该工艺效率。