制造超薄电解铜箔用的添加剂
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制造超薄电解铜箔用的添加剂
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简介: 本发明涉及一种制造超薄电解铜箔用的添加剂,其特征在于添加剂是 由每10000升去离子水中加入300~800毫克酰胺、20~40毫克干酪素、5 ~10毫克四氢噻唑硫铜、5~10毫克聚乙二醇、40~50毫克明胶混匀而成。 用本发明的添加剂制造的大容量锂离子电池用高性能电解铜箔,具有双面 结构基本一致即是双面光铜箔,厚度薄,实测厚度&≤12微米,毛面晶体结 构均匀平滑致密,金属密度接近纯铜理论密度,毛面轮廓度Rz<2微米、 延伸率>5%、抗拉强度>400N/mm2,相同单位面积质量的铜箔测得厚度极差 ≤0.5微米。
本发明涉及一种制造超薄电解箔用的添加剂,其特征在于添加剂是 由每10000升去离子水中加入300~800毫克酰胺、20~40毫克干酪素、5 ~10毫克四氢噻唑硫铜、5~10毫克聚乙二醇、40~50毫克明胶混匀而成。 用本发明的添加剂制造的大容量离子电池用高性能电解铜箔,具有双面 结构基本一致即是双面光铜箔,厚度薄,实测厚度&≤12微米,毛面晶体结 构均匀平滑致密,金属密度接近纯铜理论密度,毛面轮廓度Rz<2微米、 延伸率>5%、抗拉强度>400N/mm2,相同单位面积质量的铜箔测得厚度极差 ≤0.5微米。
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